Intel hat derzeit noch massive Probleme bei der 10nm-Fertigung. Trotz sehr guter Verbesserungen gegenüber 14nm traten Fehler auf, die so nicht vorhersehbar waren. Die Fehler seien mittlerweile erkannt worden, an der Behebung werde gearbeitet. Für 7nm schließt der Prozessorhersteller die gleichen Fehler aus.
10nm: das Intel-Sorgenkind
Intel hat derzeit so einige Probleme in Hinblick auf die eigene Fertigung. Seit 2012 hat der Technik-Gigant immer wieder angekündigt, bald in die 10nm-Fertigung einsteigen zu können. Damals war noch von 2015 die Rede, mittlerweile wurde die Massenfertigung von 10nm-Prozessoren auf 2019 verschoben. In diesem Jahr erreichen uns deshalb nur Kleinserien in 10nm-Fertigung, beispielsweise der Core i3-8121U, welche nicht so viel Aufwand bedeuten und vor allem nicht so viel Leistung bringen müssen. Die Cannon Lake-Serie lässt deshalb gewaltig auf sich warten. Intel verbessert daher stetig den 14nm-Prozess, welcher im Desktop erstmals mit Skylake zu finden war. Auch Coffee Lake ist ein deutlich verbesserter 14nm-Ableger.
Woher kommen allerdings jetzt die Probleme? Der CEO Brian Krzanich ging darauf kurz beim 2018 Annual Stockholders‘ Meeting ein. Die steigende Zahl an Medienberichten bezüglich der Fertigungsproblemen lässt die Aktionäre scheinbar nervös werden. Krzanich gab daraufhin die Antwort, dass sich das Unternehmen beim 10nm-Fertigungsverfahren einfach übernommen habe. Im Vorfeld wurde mit einer Skalierung vom Faktor 2,4 gegenüber dem 14nm-Verfahren geworben, was sowohl die Mitbewerber als auch die eigenen Erwartungen übertroffen hätte. Insgesamt sollte die Skalierung sogar auf 2,7 erhöhbar sein. Diese Leistungsmaßstäbe brachten jedoch auch so einige Probleme mit sich, die sich jetzt in der Massenfertigung widerspiegeln.
Keine Probleme mit 7nm
Das ganze Entwicklungsverfahren zu 10nm habe Intel ziemlich an die Grenze geführt. Es gebe jedoch auch den Vorteil, dass die gleichen Fehler nicht mehr mit dem 7nm-Verfahren vorkommen werden. Intel plane bei 7nm keine Skalierungsrekorde mehr, sondern eine kontinuierliche Entwicklung, um die Probleme der 10nm-Fertigung nicht noch einmal zu wiederholen. Erstmals soll dabei auch die EUV-Lithografie zum Einsatz kommen. Die Fertigung soll auch durch eine neue Belichtungsmaschine von ASML „viel einfacher“ werden.
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